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硅片電阻率測(cè)試儀的準(zhǔn)備事項(xiàng)設(shè)置的步驟
非接觸方阻測(cè)試儀在半導(dǎo)體材料的研發(fā)和生產(chǎn)中的作用
產(chǎn)品中心/ products
主營(yíng)產(chǎn)品:晶圓方阻測(cè)試儀、晶圓電阻率測(cè)試儀,硅片電阻率測(cè)試儀,渦流法低電阻率分析儀,晶錠電阻率分析儀,遷移率(霍爾)測(cè)試儀,少子壽命測(cè)試儀,測(cè)試硅片,碳化硅、科研大學(xué)提供服務(wù)。
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晶圓方阻測(cè)試儀供應(yīng)商專注于非接觸式半導(dǎo)體計(jì)量分析技術(shù)的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn),攻克被國(guó)外卡脖子技術(shù)。
產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏、科研以及平板材料測(cè)試領(lǐng)域。借助公司*計(jì)量分析測(cè)試技術(shù),為晶圓、碳化硅、硅片、封裝測(cè)試等生產(chǎn)和品質(zhì)監(jiān)控,提供一整套完整測(cè)試和解決方案。
晶圓電阻率測(cè)試儀,硅片電阻率測(cè)試儀,渦流法低電阻率分析儀,晶錠電阻率分析儀,遷移率(霍爾)測(cè)試儀,少子壽命測(cè)試儀,方塊電阻有一個(gè)特性,即任意大小的正方形測(cè)量值都是一樣的,不管邊長(zhǎng)是1米還是0.1米,它們的方阻都是一樣,這樣方阻僅與導(dǎo)電膜的厚度等因素有關(guān),表征膜層致密性,同時(shí)表征對(duì)熱紅外光譜的透過(guò)能力,方塊電阻測(cè)量數(shù)值愈大,則隔離熱紅外性能越差,方塊電阻測(cè)量數(shù)值愈小則隔離熱紅外性能越好,對(duì)于建筑行業(yè)來(lái)講低輻射玻璃的熱紅外性能測(cè)量的快速測(cè)量就必須選用方塊電阻測(cè)量?jī)x,測(cè)量值愈小則建筑材料就愈節(jié)能,在建筑材料行業(yè)具有很大的作用。
晶圓方阻測(cè)試儀技術(shù)參數(shù):
樣品尺寸:2"-8"或者16mm×16mm的方形樣品;
遷移率測(cè)量范圍:100-20000(cm2/v.sec);
方塊電阻測(cè)量范圍:100-3000(ohm/sq);
載流子面密度測(cè)量范圍:1E11-1E14(cm-2);
電磁鐵磁場(chǎng)強(qiáng)度:1.0T;
探頭線圈直徑:15mm。
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